反应离子刻蚀机

仪器编号 2009021 规格型号 TRIONSIRUST2
生产制造商 TrionTechnology 产地国别 美国
收费标准 280元/层 启用日期 03/05/2011
设备存放地址 厦门湖里区港中路1694号万翔商务中心2号楼南楼3层
实验室管理员 周琦 预约电话 0592-2529611
对外共享规定 请提前预约,最长预约使用30天
仪器状态 正常 预约仪器 请先登录

TRION TECHNOLOGY SIRUS T2反应离子刻蚀机是一套桌面式等离子刻蚀系统,可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。SIRUS T2的内部程序中已经制定了蚀刻硅,二氧化硅,氮化硅,石英,聚酰亚胺,钽,钨,钛钨和其他材料所需要的基本控制,具有良好的选择性和刻蚀均匀性。

 

主要技术指标:

·       刻蚀基片规格:>200mm(8英寸)

·       反应电极规格:8英寸

·       反应腔体材料:SUS304不锈钢

·       反应室材料:镍合金

·       自动调谐射频发生器频率:13.56MHZ,功率600瓦

·       反应离子气体刻蚀均匀度:<5%(600W刻蚀)

·       四路单独的气体流量控制器,分别控制氮气、氧气、四氟化碳、六氟化硫

·       配备直掀式真空锁,便于破真空后快速样品取放

·       循环温度控制器

·       自动的压力调节


上一台: 开盖机台 下一台: X光透视机
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